真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

常用于對半導體、光伏、電子、精密光學等行業的納米級表面處理。

系統原理

通過電子槍發射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材，使其在高真空下蒸發并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。

系統配置

• 自動化控制器: e-Control PLC，是控制系統的核心硬件平臺。
• 人機界面硬件: TPC1503工業級15寸觸摸式平板電腦，穩定可靠。
• 人機界面軟件: NETSCADA組態軟件開發平臺，提供真空鍍膜機的控制和監視。
  

系統評價:

• 提供多達99層一次成膜支援；
• 自動倒幕翻轉，可實現雙面鍍膜；
• 支持Excle導入靶材、設備參數、工藝參數等；
• 支持電子槍像素點數量自定義控制，實現靶材的無縫隙加熱控制；
• 針對不同加熱段，采用不同蒸鍍模式，保證熔料均溫的同時，保證熔料效率；
• 一鍵式啟動，從啟動到生產結束只需輕點一下鼠標，各種生產流程自動完成；
• 批號式數據管理方案，實時自動保存生產信息，對生產數據有據可查；

網絡化方案，提供遠程組網端口，輕松實現遠程多系統集中控制